1. Aerosol processing of materials
پدیدآورنده : Tovio T. Kodas and Mark J. Hampden-Smith
موضوع : Thin films,Aerosols,Chemical vapor deposition
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
2. Atomic layer deposition
المؤلف: Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, and Arthur Sherman.
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Chemical vapor deposition.,Epitaxy.,Microelectronics.,Nanotechnology.
3. CVD Polymers
المؤلف: / edited by Karen K. Gleason
المکتبة: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع: Chemical vapor deposition,Polymers.,Manufacturing processes,Production engineering
رده :
TS695
.
P62
2015
4. CVD diamond for electronic devices and sensors
المؤلف: / edited by Ricardo S. Sussmann
المکتبة: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع: Electronics, Materials,Diamonds, Artificial,Chemical vapor deposition
رده :
TK7871
.
15
.
D53C94
2009
5. CVD diamond for electronic devices and sensors
المؤلف:
المکتبة: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع: Electronics ; Materials. ; Diamonds, Artificial. ; Chemical vapor deposition. ;
6. CVD diamond for electronic devices and sensors
المؤلف: edited by Ricardo S. Sussmann
المکتبة: المکتبه المرکزيه ومرکز التوثیق بجامعة الشهید باهنر فی کرمان (کرمان)
موضوع: ، Electronics - Materials,، Diamonds, Artificial,، Chemical vapor deposition
رده :
TK
7871
.
15
.
D53
C94
2009
7. CVD diamond for electronic devices and sensors
المؤلف: / edited by Ricardo S. Sussmann
المکتبة: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه شهيد چمران (خوزستان)
موضوع: Electronics--Materials,Diamonds, Artificial.,Chemical vapor deposition.,Aufsatzsammlung.,Aufsatzsammlung.--swd
رده :
TK
,
7871
.
15
,.
D53
,
C94
,
2009
8. CVD of compound semicondictors
المؤلف: / Anthony C. Jones, Paul O'Brien
المکتبة: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه شهيد چمران (خوزستان)
موضوع: Compound semiconductors.,Organometallic chemistry.,Chemical vapor deposition.,Epitaxy.
9. CVD of compound semiconductors :
المؤلف: Anthony C. Jones, Paul O'Brien.
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Chemical vapor deposition.,Compound semiconductors -- Design and construction.
رده :
TK7871
.
99
.
C65
A584
2010
10. CVD of compound semiconductors
المؤلف:
المکتبة: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع: Compound semiconductors ; Design and construction. ; Chemical vapor deposition. ;
11. Chemical Vapor Deposition
المؤلف:
المکتبة: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (أردبیل)
موضوع: Vapor Deposition
رده :
TS695
.
H5
1993
12. Chemical vapor deposition
المؤلف: / edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية 1 بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Chemical vapor deposition,Plasma-Enhanced chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
1993
13. Chemical vapor deposition
المؤلف: / edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Chemical vapor deposition,Plasma-Enhanced chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
1993
14. Chemical vapor deposition for microelectronics :
المؤلف: by Arthur Sherman.
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Chemical vapor deposition.,Integrated circuits-- Design and construction.,Aufdampfen.,Aufdampfen.,Chemical vapor deposition.,CVD-Verfahren.,CVD-Verfahren.,Dépôt en phase vapeur.,Integrated circuits-- Design and construction.,Microélectronique.,Mikroelektronik.,Mikroelektronik.
رده :
TS695
.
S54
1987
15. Chemical vapor deposition growth and characterization of two-dimensional hexagonal boron nitride /
المؤلف: Roland Yingjie Tay.
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Boron nitride.,Chemical vapor deposition.,Electronics-- Materials.,Nanostructured materials.,Boron nitride.,Chemical vapor deposition.,Electronics-- Materials.,Nanostructured materials.,TECHNOLOGY & ENGINEERING-- Mechanical.
رده :
TA455
.
B65
16. Chemical vapor deposition polymerization: the growth and properties of parylene thin films
المؤلف: Fortin, Jeffrey B.
المکتبة: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (طهران)
موضوع: ، Chemical vapor deposition,، Thin films
رده :
TS
695
.
F67
2004
17. Chemical vapor deposition: principles and application
المؤلف: / edited by Michael L.Hitchman, Klavs F.Jensen
المکتبة: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع: Plasma- Enhanced chemical vapor deposition,Vapor deposition
رده :
TS695
.
15
.
C33
1983
18. Chemical vapor deposition : principles and applications
المؤلف: edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
المکتبة: كتابخانه پژوهشگاه نیرو (طهران)
موضوع: ، Chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
1993
19. Chemical vapor deposition : principles and applications
المؤلف:
المکتبة: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (طهران)
موضوع: ، Chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
1993
20. Chemical vapor deposition : principles and applications
المؤلف: edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
المکتبة: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه صنعتي خواجه نصير الدين طوسى (طهران)
موضوع: ، Chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
